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摩方精密BMF-光固化3D打印机（25μm）- nanoArch® S140

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摩方精密BMF-光固化3D打印机（25μm）- nanoArch® S140

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摩方材料

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nanoArchR S140系统简介

光学精度：10μm；

打印幅面：94×52mm；

超高精度大幅面增材制造设备。

系统性能

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：光敏树脂

光学精度：10μm

打印层厚：10~40μm

打印样品尺寸：

模式1：单投影模式：19.2mm(L)×10.8mm(W)×45mm(H)

模式2：拼接模式：94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)

模式3：重复阵列模式：94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)

打印文件格式：STL

系统外形尺寸：1000mm(L)×700mm(W)×1600mm(H)

机器外形尺寸：650mm(L)×650mm(W)×750mm(H)

重量：245kg

电气要求：220~240V AC,50/60HZ,2KW

系统特点

超高精度（光学精度高达10μm）

低层厚（10μm~40μm的打印层厚效果对比）

微尺度打印能力

光学监控系统，自动对焦功能

优良的光源稳定性

配套功能强大的打印软件、切片软件

应用案例

跨尺度微点阵结构

倾斜微针结构

乳液生成器

140样件

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